超级亮眼的工业用水过滤设备200LEDI膜堆清洁力倍增
在高科技的工厂中，纯净水对于半导体制造和药物生产至关重要。传统上，这些行业使用离子交换技术来获得高纯度水，但随着膜处理技术的发展，如电除盐（EDI）过程，已经成为一个备受欢迎的替代方案。ED I系统能够有效去除矿物质，并且可以持续运行，而不需要像离子交换设备那样频繁更换化学再生剂和废水处理。这使得 EDI 成为工业用水过滤领域增长最快的一个分支。
ED I设备通过将特殊设计的混床离子交换树脂放置在两个阴/阳离子交换膜之间，形成一个单元。在这个单元中，有一定数量的浓水室被隔开，用网状材料作为分隔。此外，还有阴/阳电极分别设置在淡水室的一端和另一端。当直流电激活时，它推动淡水室中的阴阳离子穿过相应的膜进入浓水室，从而去除这些离子的同时，将浓缩后的溶液排出系统。
为了确保最高质量输出，EDI装置通常使用反渗透（RO）纯净水作为输入源。RO纯化后，可以达到40-2微西门斯/厘米（25℃）的低电阻率，而经过EDI处理后的产品可达18 MΩ.cm（25℃），适用于要求非常高电阻率的应用场合，如制备1-18.2MΩ.cm（25℃）的精密级清洁液体。
EDI装置具有几个独特之处：它不需要化学再生剂，不需要定期停机进行维护，而且不会产生酸碱废料或其他污染性廢棄物。此外，由于其模块化结构，该设备简化了维护工作，并提供了一系列选项以满足不同需求：
淡水隔板采用卫生级聚乙烯材料。
EDI膜片由进口均相膜及国产异相离子交换膜组成。
使用进口专用均粒树脂及国产同类产品。
电极板采用钛镀钌技术。
压紧板由硬性铝轧铸件制成。
固定螺丝符合国家标准件规范。
出厂试压7巴，不漏气性能优良。
低能耗、高效能功耗小，是节能环保型设备之一。
外观装饰板美观结实，可提升整体美观感受度。
10、***大型记忆芯片堆处理能力可达3000升每小时，小型记忆芯片堆则为75升每小时。
11、通道设计合理，无死角，便于日常操作与维护，同时保证了流程稳定性和效果最佳化。
为了确保最佳性能，ED I 设备对进料要求严格：
12、通常需接收单级或二级反渗透 purified water 作为输入源；
13、总可交换阴離子的含量必须低於25ppm，以CaCO3计；
14、电导率应低於40微西门斯/厘米；
15、pH值范围应保持在6至9之间，当总硬度不足0·1ppm时，最好设定 pH 为8至9；
16、二氧化硅含量不得超过0·5ppm；
17、一系列其他指标也必须遵守以确保最终产品质量。
