全新设计来袭开贝设计20新增6项强大功能第29届全国摄影展征稿启事让社会的美好瞬间更轻松拍摄
01新增【预设】功能
2.0版本在新建任务时，可以保存「产品预设」，这个功能可以将平日多次使用的一些产品组合成一个预设，在下次新建任务时快速添加。对于一些有固定产品需求的场景，「产品预设」功能能更大地提高新建任务的工作效率，同时可减少产品出错，使用非常方便。
02新增【导出成品提醒】功能
相较于1.0版本，想要确认入册数只能从顶部的总入册张数确定外，没有二次提示。而2.0版在原有显示基础上新添加输出成品的自动检测未入册提醒功能，能多次自动核查入册信息，以强提示的方式提醒数码师对产品的再次确认，以免发生遗漏的问题。减少工作中多余的检查步骤，解放注意力，将注意力回归设计本身。
03新增【自动识别素材图层提示】功能
设计模式画布内，当鼠标悬停在对应素材内即可显示该素材对应图层或画布内，这样就能快速识别画布内素材图层位置，无需数码师来回手动点击右侧按钮反复确认当前图层，从而减少操作步骤，更大提高工作效率节省时间。
04新增【切换默认素材选中】功能
新增加了一个简便切换选中的方式，不需要按shift键就可以选择，可以随意切换素材大小、位置、方向等，这样减少了操作障碍，对于1.0版本来说更人性化，交互感也更强。如有需求，可自行设置是否开启该功能使用。
05新增【自动设计】功能
设计模式（原编辑模式）加入了新的自动设计能力，无需数码师手动切换套版模式，也能自动设计新的相册模板，不受区间限制进行创作，让设计效率更高。此外，还提供了一系列全新的模板和资源供大家选择和应用。
06新增【放大状态下擦除蒙版】功能
开贝设计2.0支持在放大状态下使用溶图工具箱里的“画笔”、“渐变”等工具，并且支持擦除蒙版。这意味着你不仅可以调整同一图层上的多余素材，还可以对放大状态下的小地方进行擦除处理，使得细节处理更加精确和灵活。此项特性演示请参考相关截屏图片。
