超纯水之光200LEDI膜堆闪耀半导体的清澈梦想
在高科技的工厂中，纯净水对于半导体制造和制药行业至关重要。传统上，这些行业使用离子交换技术来获得高纯度水，但随着时间的推移，膜处理系统，如电除盐（EDI）过程已经变得越来越流行。EDI能够有效去除矿物质，并且可以连续运行，而不需要像离子交换系统那样复杂的机械结构或酸碱再生以及废水处理。
EDI设备采用特殊设计的水槽，其中填充了混床式离子交换树脂，可以将总固体溶解量（TDS）为1-20mg/L的原始水源转化成8-17兆欧级纯净水。这一过程通过阴阳离子交换膜与树脂之间形成单元，以图形方式展示其工作原理。在浓缩室中，将一定数量的单元隔开并设置阴阳电极，当直流电驱动下，阴阳离子的移动使淡水室中的污染物被排除，同时浓缩室中的浑浊物被去除。
这种设备通常利用反渗透（RO）技术生产出具有40-2μS/cm电阻率的纯净水作为输入。而输出则达到18 MΩ.cm甚至更高的电阻率，使之适用于要求非常低电阻率环境下的应用，比如制备1-18.2MΩ.cm等级纯净水。
EDİ装置具有独特优势，不仅无需化学再生，也能持续运作，无需传统混合型离子交换设备所需的大量酸碱液及产生的大量废弃物。此外，该装置模块结构精心设计：
淡水隔板采用卫生级PE材料。
EDI膜片使用进口均相膜和国产异相离子交换膜。
采用进口EDI专用均粒树脂和国产EDI专用均粒树脂。
电极板采用钛镀钌技术，为耐腐蚀性强。
压紧板采用合金铝轧铸而成，为坚固耐用。
固定螺丝采用国标标准件，确保稳定性。
出厂试验压力达到了7bar，不漏失任何一滴液体。
设计优化以减少功耗、提高效率、降低成本。
外观装饰美观结实，便于安装和维护操作。
10.,***大膜堆可处理3T/H大量清洁流体，小型模块则可处理75L/H微小流量。
此外，对于进料指标要求严格：
11., TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：＜25ppm，
12., 电导率：＜40μS/cm,
13., pH：6~9,
14., 温度：5~35℃,
15., 进入压力：<4bar(60psi),
16., 硬度：<0,02ppm CaCO3
17,, 有机物(TOC)：<0,05ppm
18,, 氧化剂(Cl₂/O₃)：<0,01/0,005 ppm
19.. 变价金属(Fe/Mn)：<0,001/0,002 ppm
20.. H₂S:< 0,01 ppm.
21.. 二氧化硅(SiO₂)：< 50 ppb.
22.. 色度(APHA)< 5.
23.. CO₂总含量:<10 ppm
24.. SDI (15分钟): <1.
通过这些措施，我们可以确保EDİ设备提供出色的性能，满足各种工业需求，从而保障产品质量与安全。
