超共源共栅简史
“老设计师们可能还记得“共源共栅”是串联真空三极管布置中所用的结构,但是今天,这个词更常用于指接近理想开关的硅和宽带隙半导体混合结构。“超共源共栅”是这一概念的进一步延伸,包括了能实现相同优势但是电压额定值高的典型SiC器件串。本文讨论了技术发展和当前器件实现的性能。
”1939年,Hunt和Hickman[1]萌发了使用共源共栅真空三极管作为稳压器的想法,然后,有人发现这种布置还可以替代音频放大器中的五极真空管,五极真空管噪音较大且较难偏压。现在,共源共栅又重回时尚潮流行列,成为碳化硅(SiC)或氮化镓(GaN)技术中常见的硅MOSFET和宽带隙常开型开关混合结构。这种结合优势明显,十分接近理想结果,会产生一种易于实现栅极驱动,具有低损耗和其他一系列优点的常关型开关。
自从应用于真空三极管之后,共源共栅结构从未远离人们的视野。它用作开关和放大器,并与MOSFET和双极面结型晶体管(BJT)结合,如“发射器开关”电路(图1a和1b)。共源共栅的一个常见主题是使用低压晶体管来控制高压晶体管。图1b显示的就是这种方法,图中,一个低成本高压BJT由一个易于驱动的低压MOSFET控制。仅“堆叠”高压器件就可以将这种控制延伸到更高的电压,如图1c所示。虽然利用BJT可以组装出额定值达到数kV的混合器件,但是基极偏压电路中的损耗会成为问题,而且如同开关一样,如果没有非常复杂的基极驱动布置,它们会非常慢。此外,BJT不会在“第三象限”从发射极到的范围内导电,而硬开关或电机驱动等“换向”应用中需要这一特征,因此需要增加一个并联二极管。
图1:使用双极型晶体管和MOSFET的共源共栅电路
SiC FET – 一种现代共源共栅
共源共栅目前的最佳实施方案可能就是结合高压常开型SiC JFET和低压Si-MOSFET,即“SiC FET”(图2)。这种结合器件的开关时间仅为数纳秒,且具有固有的快速低损耗体二极管效应,可实现第三象限运行。它的开关能耗和栅极电荷非常低,而且相比IGBT、Si-MOSFET、SiC MOSFET和GaN HEMT元件,它的单位晶粒面积的通导电阻性能表征为同类最佳。SiC FET拥有宽带隙器件的优势和高压高温额定值,而且易于实现栅极驱动,与传统Si-MOSFET和IGBT驱动兼容。SiC FET还拥有稳固的防短路和防雪崩特征。
图2:SiC FET – 一种现代共源共栅
在运行过程中,SiC FET由栅极处的负电压打开,该负电压会将Si-MOSFET沟道设置为导电,从而使SiC-JFET栅源短接,进而打开SiC FET。现在,电路中有电流通过,而且因为与高压SiC-JFET相比,低压Si-MOSFET的RDS(on)非常低,所以导电损耗主要由SiC-JFET决定。要关闭器件,Si-MOSFET栅极设为0V,其漏极电压升高,直至SiC-JFET柵源在若干伏的负电压下达到“夹止”状态,从而关闭器件。由于器件电容比,Si-MOSFET漏极电压会动态地维持在低水平。
在更高电压下开关
对于约1000V以上的电压,作为开关,IGBT仍是一个有竞争力的经验证、低成本解决方案。IGBT不能非常快速地开关,不过它没有过高的损耗,这种损耗主要是由关闭时的“尾电流”引起的。开关速度慢意味着磁性元件的体积更大,成本更高,因此,由于MOSFET在较高频率下的能力,可以使用MOSFET,而Si和SiC类型成本高昂,在高压下尤其如此,且通导电阻高。当开关数kV电压时,由于在高压额定值下必然会有厚外延层,MOSFET会变得非常昂贵,选择有限,且通导电阻仍然较高。在大功率/电流下,MOSFET的大通导电阻带来的导电损耗要比IGBT大得多,而饱和压降相对固定。解决方法是并联高压MOSFET器件,但是这种做法的成本会攀升,栅极电容和输出电容也会增加,进而导致损耗升高,开关速度变慢,且需要更高的栅极驱动功率。在较大功率下使用的典型“桥”电路中,MOSFET的数量成倍增加,且栅极驱动变得复杂,需要隔离并使用低障壁电容的高侧驱动尤其如此,这会使实现较高栅极驱动功率变得更加困难。
Si-MOSFET和SiC-MOSFET都有可实现第三象限运行的体二极管,但是高压类型存储的电荷过多,尤其是在高温条件下,因而需要并联快速高压二极管,这会提高成本。
超共源共栅 — 理想的解决方案
SiC FET共源共栅已然胜过Si-MOSFET或SiC-MOSFET,至少可以用于标准的1700V额定电压下。对于更高电压,解决方案是图3中的“超共源共栅”,这是一种图1c的现代化等效方案,不过采用了一串SiC-JFET。
图3:采用SiC FET方法的“超共源共栅”拓扑
在这一布置中,多个SiC-JFET堆叠并偏压,以便M1和J1构成的共源共栅结构触发其他SiC-JFET随之打开和关闭,且在关闭状态下,电压均匀分布。SiC-JFET可以是现成的标准1700V类型,轻松堆叠就可以用于数kV额定值,而Si-MOSFET仍然是低压类型,并可以轻松实现栅极驱动。SiC-JFET器件电容现在以串联方式而非并联方式连接,因此动态损耗低。二极管D1-4限制SiC-JFET的闭塞电压,而电阻器则在关闭状态下提供二极管偏压电流。电容C1-4可以保证SiC-JFET电压的动态平衡,以及打开和关闭过程同步。
SiC-FET具有快速、低损耗的体二极管效应,无需并联二极管就可以实现第三象限运行,且保留了共源共栅出色的短路和雪崩额定值。
这种方法还有一部分好处非常显而易见,那就是Si-MOSFET中的过电流和短路非常容易察觉,Si-MOSFET可以用隔离的元件构造,通常以与主电流1:1000的比例提供电流检测信号。在共源共栅中,这一感应方法非常有用,不会产生自偏压,致使测量不准确。类似地,减饱和检测也更加容易,因为可以监视Si-MOSFET漏极电压,该电压永远不超过几伏,从而能够在检测电路中使用快速低压的肖特基二极管。
超共源共栅解决方案整体的组件成本低于并联MOSFET,损耗也较低,还能实现更快的开关速度。它的保护能力和功能都有所提高,栅极驱动简单,还有标准商用部件可以使用,从而显著缩短了最终产品开发时间,降低了风险。
实际结果
UnitedSiC[2]自1999年开始一直在开发SiC FET,现已有一系列可靠性经过验证、制造流程完备、经过自动质量检测的标准部件。身为超共源共栅概念的先锋,UnitedSiC已经生产出额定值为4.5kV/40A,集成了图3部件与一个20V/5毫欧Si-MOSFET和五个1200V/14毫欧SiC JFET的器件(图4)。
图4:UnitedSiC生产的4.5kV,40A超共源共栅器件
根据测量,该器件打开时间为105ns,能耗EON为12.7mJ,关闭时间为56ns,能耗EOFF为1.4mJ,总开关能耗ETOT为14.1mJ。相比之下,类似额定值的IGBT的总能耗ETOT为305mJ。在超共源共栅中,在2.3kV/25A下,反向恢复电荷QRR也非常低,在di/dt为1290A/µs时仅为1.61µC,与单个SiC肖特基二极管相当。
串联SiC JFET电压的动态平衡对部件的性能和可靠性至关重要,其测量值如图5所示,这表明了它具有出色的分担特征。
图5:UnitedSiC 4.5kV超共源共栅的动态电压均衡
UnitedSiC进一步推动了技术发展,生产出了6.5kV/200A半桥超共源共栅模块原型(图6),它的ETOT值为184mJ,QRR值为14µC,都比拥有类似额定值的IGBT出色十倍以上。该模块适合许多应用,如固态转换器、风力应用、牵引应用和高压直流输电。未来还有一大应用领域是350-400kW电动车快速充电器,此充电器将使用4160VAC三相中压电源,且三电平逆变器内使用6.5kV/200A模块。
图6:超共源共栅半桥模块(6.5kV,200A)
UnitedSiC使用30个额定值为1700V的标准JFET晶粒,通过堆叠超共源共栅块制造出了40kV/1A模块,从而证明了还可以实现更高的电压。测得的通导电阻为18欧,在30kV下的漏电仅为75µA。
结论
SiC FET已经非常接近理想开关。现在,在共源共栅构造中,额定电压可以达到数万伏。模块可以采用现成的标准晶粒、辅助性无源组件以及业界标准或定制封装来构建,实现高性能、快速、低风险的电流和新一代高压开关应用解决方案。
参考资料:
[1] Hunt, Frederick Vinton; Hickman, Roger Wayne (1939). On Electronic Voltage Stabilizers
[2]