全新设计潮涌至社会开贝设计20版增6大功能让世界顶级摄影杂志的编辑工作更轻松
01新增【预设】功能
在2.0版本中，我们引入了「产品预设」功能，允许你在新建任务时保存常用产品组合，以便下次快速添加。对于需要固定产品的场景，这个功能可以显著提高工作效率，同时减少错误和不便。
例如，你可以创建一个预设1.199，它包含不同规格和数量的产品。这样一来，当你需要重复使用这些组合时，只需选择这个预设即可。
02新增【导出成品提醒】功能
相较于1.0版本，2.0版在原有显示基础上增加了自动检测未入册提醒的功能。这意味着系统会多次自动核查入册信息，并以强烈提示方式提醒数码师进行确认，以避免遗漏问题，从而减少额外检查步骤，释放更多注意力用于设计本身。
03新增【自动识别素材图层提示】功能
现在，在设计模式画布内，只需鼠标悬停在对应素材上，就能看到该素材对应的图层或画布位置。这大大简化了操作步骤，无需反复点击右侧按钮确认当前图层，从而提高工作效率和节省时间。
04新增【切换默认素材选中】功能
我们还加入了新的选项，让你能够随意切换素材大小、位置、方向等，而无需按住Shift键。这使得交互更加自然，相比之前更为人性化。此外，你也可以自行设置是否启用这个功能。
05新增【自动设计】模式
2.0版本中，我们引入了一种名为「自动设计」的新模式，无需数码师手动切换套版模式，即可进行创作。这不仅减少了不必要的切换步骤，而且提升了整体设计效率，让创作过程更加流畅。
06新增【放大状态下擦除蒙版】能力
最后，我们支持在放大状态下使用溶图工具箱中的“擦除”、“画笔”、“渐变”等工具，可以对同一图层上的多余素材进行调整擦除，或是在小地方进行精细处理。这种能力让你的编辑变得更加灵活和高效。
