日本对韩国实施半导体原料出口管制，引发新一波科技冷战，全球半导体产业扫陷入断链危机。市场则高度关心，韩国半导体大厂三星(Samsung)是否会因此受到打击，而晶圆代工龙头台积电或将从中受惠。业内专家分析，短期内应不会发生转单效应，但长期来看，这将打乱三星在发展先进制程的脚步，台积电可望再拉大与对手之间的距离、让其领先地位更加稳固。
光刻胶导入难度高 良率影响巨大
日本政府自7月4日起对韩国三项半导体材料实施出口管制，分别为使用在智能面板的氟化聚醯亚胺 (Polyimide)，以及用在晶圆制程的光刻胶(photoresist)和高纯度氟化氢(Hydrogen fluoride)，之后又将韩国从白名单中移除；韩国半导体公司虽可透过专案申请原料进口，但无法享有过去的简化程序。
韩国也没有坐以待毙，除给予同等还击外，据韩媒报导，政府更计划在明(2020)年大幅提高国家研发支出，以协助国内企业研发关键技术，包括工业材料与设备。由于，日本在这三项半导体原料的供应几乎呈现垄断，外界担忧此将不利韩国半导体产业发展，甚至蔓延到全球供应链。
究竟这对韩国半导体产业冲击为何?以晶圆代工来看，一位业内专家分析，虽然三项原料缺一不可，但从时效性的影响来看，以管制光刻胶的冲击最大。这次日方对韩国主要管制EUV(极紫外光刻)光刻胶，其扮演着先进制程的关键推手，更是7 nm制程以下的标配；而韩国高达9成的光刻胶都仰赖日本进口，韩国公司想要在短期间内建立好第二供应链(second source)、并非易事。
他进一步说明，先不论韩国半导体公司找不找的到第二供应链，或是研发出自产材料，晶圆代工原料的验证时程相当长，从RD部门做原料及机台的匹配，到小量生产、上千片的试产，再到正式的导入，至少得花上半年到一年的时间，只要日方管制未除，先进制程发展势必受阻。
此外，从良率来看，光刻机( Scanner )制造速度相当快，每日约2,000-3,000片晶圆，如果原料出问题，影响巨大，从台积电年初爆发的光刻胶事件即可应证；而高纯度氟化氢则是用在湿式蚀刻机(Wet etching)，其制造速度慢、约光刻机的八分之一至十分之一，若原料有问题，报废的晶圆相对少，对良率的影响也较小。
至于在日韩贸易战下，台积电是否可以从中得利？该名专家表示，台积电在全球晶圆代工7nm制程市占率很高(Trendforce预估达9成以上)，推估台积因日韩贸易战而获得转单的空间相对有限；但以长期来看，三星在先进制程的发展上被绑上手脚，这将更加巩固台积的长期领先地位。
台积电7nm趋近满载5nm进度顺利
事实上，自从格罗方德（GLOBALFOUNDRIES）、联电相继宣布退出先进制程后，台积电、三星就呈现捉对厮杀状态，而台积起步较早、取得先发优势，目前包括苹果(APPLE)、华为海思、高通、超微(AMD)…等都是大客户；台积于7月法说时更表示，7nm产能非常满，至年底占营收比重将超过25%。
某设备商主管透露，因客户需求强劲，台积原本预计明年第二季7nm产能达到10万片/月以上，目前已陆续购进新设备，要提前到今年底前完成；此外， 5nm进度也很顺利，台积下半年以来连续上调产能规划，自3.9万片/月调高到4.5万片、再到5万片/月，反映客户需求十分正向，预计明年第一季可量产。
台积电近期也调整全年资本支出，先前台积估计2019年将落在100~110亿美元，而为因应7nm、5nm需求，将加速扩充产能，上调资本支出至110亿美元以上。
对比之下，日前一度传出三星抢下NVIDIA7nmEUV订单，NVIDIA随即发表声明否认，并强调合作对象依然是台积电，迅速打脸市场传闻。虽然，三星不停展现发展先进制程决心，积极抢攻7nm市占，更发下豪语要在2020年量产3nm、超车台积，但从实际接单来看，似乎没有太大斩获。
台积电先进制程规划：
台积先进制程可望领先三星两年以上
日韩贸易战牵动全球半导体产业，近日看似有和缓迹象，据外媒报导，日本政府为了强调此并非禁运，上周(8/7)对EUV光刻胶发出了出口许可。对此，业内人士则认为，日本对韩管制半导体关键原料出口，等同于给韩国半导体公司戴上紧箍咒，除非管制取消或韩国培育出自主原料生产，才有可能将它取下。
市场预估，原先台积电在先进制程技术领先三星1.5-2年，在这次爆发日韩纷争后，三星在先进制程的布局上恐受影响，有可能再拉大双方距离到两年以上；尤其，发展先进技术是场与时间、资金、技术的全力竞赛，在任何一点丧失优势，都有可能输了赛局。
