高压会破坏手性金属有机骨架的镜像圆偏振发光
高压会破坏手性金属有机骨架的镜像圆偏振发光 手性是化学、物理、生物和医学等领域中的一个重要特征，在各个领域中得到了广泛的应用。尽管已经探索和发展了许多独特的手性化学和物理现象，但在极端条件下对于手性的研究仍然存在一些基本科学问题。近日，中国科学院大连化学物理研究所研究员袁开军团队与中国科学院福建物质结构研究所谷志刚研究员团队合作，利用自主搭建的高压圆偏振发光（CPL）探测系统，发现了高压可以破坏手性金属有机骨架的镜像圆偏振发光。相关论文发表在中国化学会旗舰期刊CCS Chemistry上。 本工作中，科研人员利用自主搭建的原位高压圆偏振发光探测系统，研究了手性金属有机骨架不同对映体的圆偏振发光现象。研究发现，随着压力的逐渐增加，CPL信号发生了明显的变化，包括CPL强度变化、发射波长偏移、CPL反转等。DFT模拟和原位HP-XRD数据结合表明，MOF结构中配体的手性构型可能在高压刺激下发生变化，导致MOF出现CPL反转现象。 该工作对原位压力刺激下手性光学材料的CPL研究提供了新思路，并发现了一种新的光学现象，即高压可以破坏对映体的镜像CPL。 相关论文信息：https://doi.org/10.31635/ccschem.023.202302932
