社会新风潮全新设计系统开贝设计20上线6大创新功能没基础也能轻松学摄影
01新增【预设】功能
2.0版本引入了“产品预设”功能，允许用户在新建任务时保存常用产品组合，以便下次快速添加。这种固定组合的产品可以极大提高工作效率，并减少错误使用。
02新增【导出成品提醒】功能
相比于1.0版本，2.0版不仅显示总入册张数，还增加了自动检测未入册提醒功能，多次自动核查以强迫用户确认，从而减少遗漏问题和多余检查步骤。
03新增【自动识别素材图层提示】功能
在设计模式画布中，鼠标悬停即可显示对应素材的图层位置，无需手动点击右侧按钮反复确认，大幅提升工作效率。
04新增【切换默认素材选中】功能
新的选项允许无需按住shift键就能选择素材，可以随意调整大小、位置、方向等参数，使操作更为人性化和直接。
05新增【自动设计】功能
编辑模式加入了自动设计函数，不需要手动切换套版模式，即可进行新模板的设计创作，无受限地提高设计效率。
06新增【放大状态下擦除蒙版】功能
支持在放大状态下使用溶图工具箱中的“画笔”、“渐变”等擦除蒙版，这样可以对同一图层上的多余素材进行调整，同时也适用于小地方的擦除处理。
总体上，开贝设计2.0不仅更新了界面，更是改善了与数码师交互的体验感，让整个设计过程变得更加高效轻松。期待未来更多关于开贝设计2.0信息，我们将持续关注并更新。
